阴极真空喷镀

HV和UHV（高真空和超高真空）--通过"阴极真空喷镀"机器形成的多层喷镀.

泰事达HV和UHV（高真空和超高真空）集团为ESRF（欧洲同步辐射装置）的光学集团开发了超高真空"阴极真空喷镀"机器，可以生产多层喷镀。欧洲同步辐射装置采购新设备的主要原因是满足不断增长的多层真空喷镀的先进技术的需求。这意味着这个过程的更高的精确性、稳定性和"可重复性"。现在的技术规格要求也扩展了，要求提供灵活性更好的机器可以满足不同科研机构用户的各种要求。而且，机器的模块化设计也预留了未来技术开发的空间。"阴极真空喷镀"技术包括采用高能气体离子轰击将要蒸发的材料（"目标"）的表面，这样当他们碰撞时他们把能量传输给"目标"被击碎后产生的原子。被轰击逃逸出来的原子然后在物质表面上沉淀，形成一层薄膜或镀层。由于这些材料具有很高的熔点，因此很难甚至不可能采用其他技术将这些材料蒸发。通过这项技术，这些材料可以快速沉淀。磁电管"阴极真空喷镀"与DECR技术相比提供稍微高一些的质量密度。应该指出的是，在进行的测试里面，机器具有快速而精确提供多层材料喷镀的潜力。通过这项技术进步，TTM展示了其在真空、高真空和超高真空领域设计、开发和执行系统和安装的能力。